history Historia zmian
Wersja obowiązująca od 2024-05-17 (Dz.U.2024.749 tekst jednolity)
[Odpowiedzialność dyscyplinarna] 1. Rzecznik patentowy i aplikant podlegają odpowiedzialności dyscyplinarnej za zawinione, nienależyte wykonywanie zawodu rzecznika patentowego i innych obowiązków określonych w ustawie, w szczególności za czyny sprzeczne ze ślubowaniem lub z zasadami etyki rzecznika patentowego.
2. Od odpowiedzialności dyscyplinarnej wyłączone są czyny, do których mają zastosowanie przepisy Kodeksu pracy dotyczące porządku i dyscypliny pracy.
Wersja obowiązująca od 2024-05-17 (Dz.U.2024.749 tekst jednolity)
[Odpowiedzialność dyscyplinarna] 1. Rzecznik patentowy i aplikant podlegają odpowiedzialności dyscyplinarnej za zawinione, nienależyte wykonywanie zawodu rzecznika patentowego i innych obowiązków określonych w ustawie, w szczególności za czyny sprzeczne ze ślubowaniem lub z zasadami etyki rzecznika patentowego.
2. Od odpowiedzialności dyscyplinarnej wyłączone są czyny, do których mają zastosowanie przepisy Kodeksu pracy dotyczące porządku i dyscypliny pracy.
Wersja archiwalna obowiązująca od 2023-02-16 do 2024-05-16 (Dz.U.2023.303 tekst jednolity)
[Odpowiedzialność dyscyplinarna] 1. Rzecznik patentowy i aplikant podlegają odpowiedzialności dyscyplinarnej za zawinione, nienależyte wykonywanie zawodu rzecznika patentowego i innych obowiązków określonych w ustawie, w szczególności za czyny sprzeczne ze ślubowaniem lub z zasadami etyki rzecznika patentowego.
2. Od odpowiedzialności dyscyplinarnej wyłączone są czyny, do których mają zastosowanie przepisy Kodeksu pracy dotyczące porządku i dyscypliny pracy.
Wersja archiwalna obowiązująca od 2021-05-21 do 2023-02-15 (Dz.U.2021.944 tekst jednolity)
[Odpowiedzialność dyscyplinarna] 1. Rzecznik patentowy i aplikant podlegają odpowiedzialności dyscyplinarnej za zawinione, nienależyte wykonywanie zawodu rzecznika patentowego i innych obowiązków określonych w ustawie, w szczególności za czyny sprzeczne ze ślubowaniem lub z zasadami etyki rzecznika patentowego.
2. Od odpowiedzialności dyscyplinarnej wyłączone są czyny, do których mają zastosowanie przepisy Kodeksu pracy dotyczące porządku i dyscypliny pracy.
Wersja archiwalna obowiązująca od 2019-10-01 do 2021-05-20 (Dz.U.2019.1861 tekst jednolity)
[Odpowiedzialność dyscyplinarna] 1. Rzecznik patentowy i aplikant podlegają odpowiedzialności dyscyplinarnej za zawinione, nienależyte wykonywanie zawodu rzecznika patentowego i innych obowiązków określonych w ustawie, w szczególności za czyny sprzeczne ze ślubowaniem lub z zasadami etyki rzecznika patentowego.
2. Od odpowiedzialności dyscyplinarnej wyłączone są czyny, do których mają zastosowanie przepisy Kodeksu pracy dotyczące porządku i dyscypliny pracy.
Wersja archiwalna obowiązująca od 2018-11-07 do 2019-09-30 (Dz.U.2018.2106 tekst jednolity)
[Odpowiedzialność dyscyplinarna] 1. Rzecznik patentowy i aplikant podlegają odpowiedzialności dyscyplinarnej za zawinione, nienależyte wykonywanie zawodu rzecznika patentowego i innych obowiązków określonych w ustawie, w szczególności za czyny sprzeczne ze ślubowaniem lub z zasadami etyki rzecznika patentowego.
2. Od odpowiedzialności dyscyplinarnej wyłączone są czyny, do których mają zastosowanie przepisy Kodeksu pracy dotyczące porządku i dyscypliny pracy.
Wersja archiwalna obowiązująca od 2017-07-04 do 2018-11-06 (Dz.U.2017.1314 tekst jednolity)
[Odpowiedzialność dyscyplinarna] 1. Rzecznik patentowy i aplikant podlegają odpowiedzialności dyscyplinarnej za zawinione, nienależyte wykonywanie zawodu rzecznika patentowego i innych obowiązków określonych w ustawie, w szczególności za czyny sprzeczne ze ślubowaniem lub z zasadami etyki rzecznika patentowego.
2. Od odpowiedzialności dyscyplinarnej wyłączone są czyny, do których mają zastosowanie przepisy Kodeksu pracy dotyczące porządku i dyscypliny pracy.
Wersja archiwalna obowiązująca od 2016-02-23 do 2017-07-03 (Dz.U.2016.221 tekst jednolity)
[Odpowiedzialność dyscyplinarna] 1. Rzecznik patentowy i aplikant podlegają odpowiedzialności dyscyplinarnej za zawinione, nienależyte wykonywanie zawodu rzecznika patentowego i innych obowiązków określonych w ustawie, w szczególności za czyny sprzeczne ze ślubowaniem lub z zasadami etyki rzecznika patentowego.
2. Od odpowiedzialności dyscyplinarnej wyłączone są czyny, do których mają zastosowanie przepisy Kodeksu pracy dotyczące porządku i dyscypliny pracy.
Wersja archiwalna obowiązująca od 2011-07-28 do 2016-02-22 (Dz.U.2011.155.925 tekst jednolity)
[Odpowiedzialność dyscyplinarna] 1. Rzecznik patentowy i aplikant podlegają odpowiedzialności dyscyplinarnej za zawinione, nienależyte wykonywanie zawodu rzecznika patentowego i innych obowiązków określonych w ustawie, w szczególności za czyny sprzeczne ze ślubowaniem lub z zasadami etyki rzecznika patentowego.
2. Od odpowiedzialności dyscyplinarnej wyłączone są czyny, do których mają zastosowanie przepisy Kodeksu pracy dotyczące porządku i dyscypliny pracy.
Wersja archiwalna obowiązująca od 2011-01-26 do 2011-07-27
[Odpowiedzialność dyscyplinarna] 1. [61] Rzecznik patentowy i aplikant podlegają odpowiedzialności dyscyplinarnej za zawinione, nienależyte wykonywanie zawodu rzecznika patentowego i innych obowiązków określonych w ustawie, w szczególności za czyny sprzeczne ze ślubowaniem lub z zasadami etyki rzecznika patentowego.
2. Od odpowiedzialności dyscyplinarnej wyłączone są czyny, do których mają zastosowanie przepisy Kodeksu pracy dotyczące porządku i dyscypliny pracy.
[61] Art. 57 ust. 1 w brzmieniu ustalonym przez art. 1 pkt 38 ustawy z dnia 24 września 2010 r. o zmianie ustawy o rzecznikach patentowych (Dz.U. Nr 197, poz. 1308). Zmiana weszła w życie 26 stycznia 2011 r.
Wersja archiwalna obowiązująca od 2001-08-22 do 2011-01-25
[Odpowiedzialność dyscyplinarna] 1. Rzecznik patentowy i aplikant podlegają odpowiedzialności dyscyplinarnej za zawinione, nienależyte wykonywanie zawodu rzecznika patentowego i innych obowiązków określonych w ustawie, a zwłaszcza za czyny sprzeczne ze ślubowaniem.
2. Od odpowiedzialności dyscyplinarnej wyłączone są czyny, do których mają zastosowanie przepisy Kodeksu pracy dotyczące porządku i dyscypliny pracy.