Filtry
ustawioneclose
Szukaj:
Pokaż wyniki dla:
Sortuj:
Wyszukaj po identyfikatorze keyboard_arrow_down
Wyszukiwanie po identyfikatorze Zamknij close
account_circle
Zaloguj się
ZAMKNIJ close
account_circle Jesteś zalogowany jako:
ZAMKNIJ close
Powiadomienia
closeZamknij menu menuPokaż menu
keyboard_backspaceWróć

Dane dokumentu

descriptionPokaż cały akt

    Daty

    • Data ogłoszenia:
      31.01.2022
    • Data wejścia w życie:
      07.01.2022
    • Data obowiązywania:
      07.01.2022
    • Z mocą od:
    • Data utraty mocy (uchylenia):

    Akty prawne powiązane

    • Zmieniające
      Zmieniane (1)
    • Wykonujące
      Wykonywane
    • Uchylające
      Uchylane
    • Ujednolicające
      Ujednolicane
    • Interpretujące
      Interpretowane
    • Wprowadzające
      Wprowadzane
    • Wdrażające
      Wdrażane

    Dokumenty

    keyboard_arrow_up keyboard_arrow_down znajdź
    idź
    removeA addA insert_drive_fileWEksportuj printDrukuj assignment add Do schowka
    description

    Akt prawny

    Akt prawny
    obowiązujący
    Dziennik Urzędowy Unii Europejskiej, L rok 2022 nr 20 str. 282
    Wersja aktualna od 2022-01-07
    Dziennik Urzędowy Unii Europejskiej, L rok 2022 nr 20 str. 282
    Wersja aktualna od 2022-01-07
    Akt prawny
    obowiązujący
    ZAMKNIJ close

    Alerty

    Sprostowanie do rozporządzenia delegowanego Komisji (UE) 2022/1 z dnia 20 października 2021 r. zmieniającego rozporządzenie Parlamentu Europejskiego i Rady (UE) 2021/821 w odniesieniu do wykazu produktów podwójnego zastosowania (Dziennik Urzędowy Unii Europejskiej L 3 z dnia 6 stycznia 2022 r.)

    Strona 142, załącznik, pkt 3B001.f otrzymuje brzmienie:

    "f.

    następujący sprzęt litograficzny:

    1.

    sprzęt do wytwarzania płytek elektronicznych poprzez pozycjonowanie, naświetlanie oraz powielanie (bezpośredni krok na płytkę) lub skanowanie (skaner), z wykorzystaniem metody fotooptycznej lub promieni rentgenowskich, spełniający którekolwiek z poniższych kryteriów:

    a.

    źródło światła o długości fali krótszej niż 193 nm; lub

    b.

    zdolny do wytwarzania wzorów o 'rozmiarze minimalnej rozdzielczości wymiarowej' (MRF) 45 nm lub mniejszej;

    Uwaga techniczna:

    'Rozmiar minimalnej rozdzielczości wymiarowej' (MRF) obliczany jest według poniższego wzoru:

    Image 1

    gdzie współczynnik K = 0,35

    2.

    urządzenia do litografii nanodrukowej zdolne do drukowania elementów o wielkości 45 nm lub mniejszych;

    Uwaga:

    		 Pozycja 3B001.f.2. obejmuje:

    -

    narzędzia do mikrodruku kontaktowego,

    -

    narzędzia do wytłaczania na gorąco,

    -

    narzędzia do litografii nanodrukowej,

    -

    narzędzia do litografii "step-and-flash" (S-FIL).

    3.

    sprzęt specjalnie zaprojektowany do wytwarzania masek, spełniający wszystkie poniższe kryteria:

    a.

    posiadający odchylaną, zogniskowaną wiązkę elektronów, jonów lub wiązkę "laserową"; oraz

    b.

    spełniający którekolwiek z poniższych kryteriów:

    1.

    apertura plamki dla szerokości piku w połowie jego wysokości poniżej 65 nm i umiejscowienie obrazu poniżej 17 nm (średnia + 3 sigma); lub

    2.

    nieużywane;

    3.

    błąd nakładania drugiej warstwy mniejszy niż 23 nm (średnia + 3 sigma) na maskę;

    4.

    sprzęt zaprojektowany do wytwarzania przyrządów wykorzystujący metody bezpośredniego nadruku i spełniający wszystkie poniższe kryteria:

    a.

    wykorzystujący odchylaną, zogniskowaną wiązkę elektronów; oraz

    b.

    spełniający którekolwiek z poniższych kryteriów:

    1.

    minimalny rozmiar wiązki równy lub mniejszy niż 15 nm; lub

    2.

    błąd nakładania warstwy mniejszy niż 27 nm (średnia + 3 sigma);".
    * Autentyczne są wyłącznie dokumenty UE opublikowane w formacie PDF w Dzienniku Urzędowym Unii Europejskiej.
    Treść przypisu ZAMKNIJ close
    Treść przypisu ZAMKNIJ close
    close POTRZEBUJESZ POMOCY?
    Konsultanci pracują od poniedziałku do piątku w godzinach 8:00 - 17:00